Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. este unul dintre cei mai experimentați producători și furnizori de hexametildisilazan (hmds) cas 999-97-3 din China. Bine ați venit la vânzare cu ridicata în vrac hexametildisilazan (hmds) cas 999-97-3 de înaltă calitate aici de la fabrica noastră. Sunt disponibile servicii bune și preț rezonabil.
Hexametildisilazan (HMDS), lichid transparent incolor. Este ușor de hidrolizat, de eliberat NH3 și de generat hexametildisilan. În prezența catalizatorului, acesta reacționează cu alcoolul sau fenolul pentru a produce trimetilalcoxisilan sau trimetilariloxisilan. Reacţionează cu acid clorhidric anhidru pentru a elibera NH3 sau NH4Cl pentru a produce trimetilclorosilan. Poate fi preparat prin reacția trimetilclorosilanului cu NH3. Poate fi utilizat ca agent de tratare hidrofob pentru suprafața silicei pirogene și ca reactiv pentru a furniza atomi de azot în reacția de sinteză organică, ca agent auxiliar pentru fibrele de carbură de siliciu, pentru a îmbunătăți rezistența la căldură și rezistența fibrelor de carbură de siliciu și ca agent anti precipitare pentru acoperiri. De asemenea, este folosit pentru prepararea compușilor organosilici.
|
|
|
|
Formula chimică |
C6H19NSi2 |
|
Masa exactă |
161.11 |
|
Greutate moleculară |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Analiza elementară |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8,68; Si, 34,80 |
Hexametildisilazan (HMDS)(Număr CAS: 999-97-3), ca compus multifuncțional de siliciu organic, a demonstrat o valoare de neînlocuit în diverse domenii, cum ar fi medicina, semiconductorul, sinteza organică și modificarea materialelor, datorită structurii sale unice de legături cu azot de siliciu (Si-N) și a reactivității ridicate.
Aplicarea HMDS în domeniul farmaceutic reprezintă 64% și este reactivul de bază pentru sinteza antibioticelor, medicamentelor anti-tumorale, medicamentelor antivirale și purtătorilor de medicamente vizați. Valoarea sa de bază se reflectă în funcțiile duale de protecție de grup și activare a reacției:
Sinteza antibioticelor
- antibiotice lactamice (cum ar fi penicilina și cefalosporina): HMDS protejează grupările hidroxil sau amino prin silanizare, prevenind descompunerea intermediarilor cheie în condiții acide sau de temperatură-înaltă. De exemplu, în sinteza antibioticelor cefalosporine, HMDS protejează gruparea hidroxil a acidului 7-aminocefalosporanic (7-ACA), crescând randamentul reacției de la 65% la 89%, reducând în același timp generarea de produse secundare.
Antibiotice aminoglicozide (cum ar fi amikacina și kanamicina): HMDS protejează gruparea amino pentru a asigura stabilitatea căii de reacție. În sinteza amikacinei, introducerea HMDS a crescut puritatea intermediarului de la 92% la 98%, îmbunătățind semnificativ eficiența producției la scară largă-.
medicamente antineoplazice
Fluorouracil (5-FU): HMDS protejează grupările hidroxil ale intermediarilor de medicamente prin silanizare, reducând reacțiile secundare oxidative. Datele experimentale arată că, după utilizarea HMDS, etapele de sinteză a fluorouracilului au fost simplificate de la 7 pași la 4 pași, randamentul a crescut de la 58% la 76%, iar puritatea a ajuns la 99,5%.
Purtător de medicament vizat: HMDS de înaltă puritate este utilizat pentru a modifica suprafața lipozomilor sau a nanoparticulelor polimerice, sporind biocompatibilitatea și țintirea. De exemplu, acumularea de purtători modificați de medicamente anti-canceroase în țesuturile tumorale este crescută de trei ori, iar toxicitatea sistemică este redusă cu 40%.
medicamente antivirale
Azvudină: HMDS reduce riscul generării de impurități în sinteza noilor intermediari de medicamente antivirale prin reacții de protecție în mai multe-etape. Studiile preclinice au arătat că introducerea HMDS reduce conținutul de impurități al intermediarilor de la 2,1% la 0,3%, susținând producția la scară mare-cu o capacitate anuală de peste 50 de tone.
Industria semiconductoarelor: „expertul în legătură” în tehnologia fotolitografiei
În domeniul semiconductorilor,Hexametildisilazan (HMDS), ca agent de lipire pentru fotogravante, îmbunătățește acuratețea producției de cip prin tehnologia de modificare a suprafeței, reprezentând 20% din aplicații. Mecanismul său principal de acțiune este:
Tratamentul hidrofobic de suprafață
HMDS este pulverizat pe suprafața plachetelor de siliciu în fază lichidă sau gazoasă, iar legătura de azot de siliciu se condensează cu gruparea hidroxil de siliciu (- Si OH) pentru a forma un strat hidrofob de nitrură de siliciu (unghiul de contact crește de la 20 de grade la 120 de grade), ceea ce crește aderența dintre fotorezistent și de trei ori adâncimea soluției de siliciu, reducând adâncimea soluției de penetrare. 80% și îmbunătățește semnificativ rezistența la coroziune.
Aplicații pentru produse de calitate electronică
HMDS de calitate electronică (puritate mai mare sau egală cu 99,999%) a fost utilizat pe scară largă în domenii precum afișajele cu ecran plat și producția de cipuri. De exemplu, în procesarea plachetelor de 12 inchi, procesarea HMDS reduce rata de stripare a fotorezistului de la 15% la 3%, controlează uniformitatea lățimii liniei cu ± 2 nm și acceptă procese de 5 nm și mai jos.
Materiale organosilicioase: modificatori cheie pentru îmbunătățirea performanței
HMDS reprezintă 3% din aplicațiile în domeniul organosiliciului și este aditivul de bază pentru optimizarea proprietăților materialelor precum cauciucul siliconic, uleiul siliconic și rășina siliconică.
Armatura din cauciuc siliconic
HMDS, ca agent de etanșare, reacționează cu grupările hidroxil de la capătul lanțului molecular de cauciuc siliconic prin legături de azot din siliciu pentru a forma o structură reticulat-stabil. Experimentele au arătat că adăugarea a 2% HMDS la cauciucul siliconic crește rezistența la rupere cu 40%, extinde domeniul de rezistență la temperatură de la -50 grade la 200 grade până la -80 grade la 250 grade și reduce setarea de compresie cu 50%.
Tratament hidrofob al uleiului de silicon
HMDS reacționează cu grupările silanol de pe suprafața-negru de fum alb în fază gazoasă pentru a forma un strat de silazan hidrofob, crescând unghiul de contact al uleiului de silicon de la 30 de grade la 150 de grade și reducând timpul de spumare cu 60%. Este utilizat pe scară largă în acoperiri, cosmetice și alte domenii.
Aditiv lubrifiant la temperaturi ridicate
HMDS se combină cu moleculele de ulei lubrifiant pentru a forma o peliculă protectoare, reducând volatilitatea cu 30%, prelungind perioada de inducție a oxidării de 2 ori și crescând stabilitatea termică la 300 de grade. Este potrivit pentru medii cu temperatură-înaltă, cum ar fi motoarele de avioane.
Tratamentul suprafeței materialului: o „cheie principală” pentru modificarea funcțională
HMDS realizează optimizarea performanței prin condensarea grupărilor hidroxil pe suprafața materialelor anorganice prin legături de azot din siliciu, cu o proporție de aplicare de 8%
Prelucrare material pulbere
Negru de fum alb: După tratamentul HMDS, suprafața specifică a scăzut de la 200 m²/g la 180 m²/g, fenomenul de aglomerare a fost redus cu 70%, iar dispersibilitatea în cauciuc a fost îmbunătățită semnificativ.
Pulbere de titan: Tratamentul hidrofobic la suprafață reduce rata de decantare a pulberii de titan în solvenți organici cu 90%, făcându-l potrivit pentru prepararea pulberii metalice de imprimare 3D.
Modificarea țesăturii din fibre
Tratamentul HMDS al fibrelor de carbură de siliciu formează un strat protector cu nitrură de siliciu, crescând rezistența la căldură a fibrei de la 1200 la 1500 grade și rata de retenție a rezistenței de la 65% la 85%. Este utilizat pe scară largă în materiale compozite aerospațiale.
Hexametildisilazan (HMDS)reprezintă 5% în domeniul sintezei organice, iar aplicațiile sale de bază includ:
Sinteza monomerului de clorosilan
HMDS suferă o reacție de schimb de clor cu clorosilani (cum ar fi octametilciclotetrasiloxanul) pentru a genera polisilazan, cu un randament cu 20% mai mare și cu un consum de energie redus cu 30% comparativ cu metoda cu amoniac direct. Este o metodă importantă pentru prepararea precursorilor ceramici.
Reductor de coadă pentru cromatografie gazoasă
Ca lichid fix, HMDS reduce activitatea de adsorbție la suprafață a purtătorului, crește simetria vârfului cu 40% și reduce limita de detecție la 0,1 ppm. Este utilizat pe scară largă în monitorizarea mediului, analiza medicamentelor și în alte domenii.
Pregătirea probelor cu microscopul electronic
HMDS, ca un desicant punct critic, înlocuiește deshidratarea tradițională cu etanol, reduce contracția probei cu 80%, păstrează ultrastructura celulară și este utilizat pe scară largă în cercetarea biomedicală.
Există cinci procese sintetice principale pentru acest produs:
1. Trimetilsilanul reacţionează cu amoniacul sub cataliza Pt sau Pd. Temperatura de reacție este ridicată, iar echipamentul este strict. Randamentul este de până la 95,8%.
2. Trimetilclorosilanul se prepară din trimetilclorosilan prin reacția cu amoniacul într-un solvent inert și prin rectificare.
3. Cu hexametildisiloxanul ca materie primă, acesta reacționează cu acid sulfuric concentrat pentru a genera sulfat de siliciu, iar sulfatul de siliciu reacționează cu acid clorhidric pentru a genera trimetilclorosilan și apoi trece amoniac pentru a prepara HMDS.
4. Hexametildisiloxanul reacţionează cu pentoxidul de fosfor sau cu acidul fosforic pentru a prepara fosfat de siliciu, apoi intră în amoniac pentru a prepara HMDS.
5. HMDS este preparat prin reacția dintre hexametildisiloxan și acid sulfuric concentrat pentru a produce sulfat de siliciu direct prin amoniac gazos.
În prezent, a doua metodă este utilizată în principal pentru producția industrială de HMDS în China. Această metodă ia ca materie primă trimetilclorosilanul, reacționează cu amoniacul în solvent inert și apoi este preparată prin distilare.
Metoda 1:
Se adaugă 630 ml trimetilclorosilan, 250 ml hexametildisiloxan, 500 ml benzen și 500 ml xilen în reactor cu agitator, termometru și manometru și se amestecă uniform. Gazul de amoniac este introdus pentru reacția de amoniac, iar schimbarea stării materialului în balon este observată cu atenție în timpul procesului de introducere a gazului de amoniac. Controlați cu strictețe debitul de gaz de amoniac, iar viteza de reacție nu trebuie să fie prea rapidă pentru a împiedica particulele de sare să învelească trimetilclorosilanul. Temperatura de reacție de control Mai mică sau egală cu 80 de grade și presiunea de reacție Mai mică sau egală cu 0,2Mpa. După reacția de amonizare, se răcește materialul la 35 de grade și se adaugă 800 ml de apă pentru prima spălare cu apă. După spălare, se lasă timp de 5 minute și se îndepărtează soluția apoasă de NH4Cl din stratul inferior în faze. Se adaugă 400 ml de soluție de hidroxid de potasiu 30% pentru a spăla faza organică. După spălare, se lasă să stea 5 minute, apoi se separă faza apoasă inferioară. Faza organică se spală cu 800 ml apă pentru a doua oară. După separarea fazelor, materialul superior este HMDS brut. În timpul procesului de spălare, apa de spălare pentru prima spălare va fi apa de spălare pentru a doua spălare după spălarea alcalină. Produsul brut este trimis în turnul de distilare pentru a separa solventul de reacție și produsul și, în finalhexametildisilazancu un continut mai mare sau egal cu 99% se obtine cu randament de 89,99%.
Metoda 2:
O metodă de preparare a hexametildisiloxanului din hexametildisiloxan include următoarele etape:
1) Puneți 1000 kg de hexametildisiloxan într-un vas de reacție cu o capacitate de 1500 L, introduceți gaz clorhidric uscat în vasul de reacție pentru reacție și generați trimetilclorosilan și apă; Presiunea din vasul de reacție este controlată la aproximativ 0,2 MPa, temperatura este de 30 de grade, iar viteza de agitare în vasul de reacție este de 65 r/min. În timpul reacției, apa generată este evacuată din fundul vasului de reacție.
Când masa de trimetilclorosilan din soluția mixtă de hexametildisiloxan și trimetilclorosilan din vasul de reacție de mai sus reprezintă 30% din masa soluției amestecate, nu mai trece acid clorhidric gazos și reacția se termină.
2) Se transferă amestecul de hexametildisiloxan și trimetilclorosilan obținut mai sus într-un alt reactor cu o capacitate de 3000L și se agită. Umpleți reactorul cu amoniac uscat pentru a genera hexametildisiloxan și clorură de amoniu. Presiunea din reactor este de aproximativ 0,25 MPa, temperatura este de 35 de grade, iar timpul de reacție este de 5 ore.
3) Clorura de amoniu din produsul de reacție din etapa 2) este separată prin agentul de îngroșare de separare a clorurii de amoniu, iar apoi reziduul este rectificat pentru a îndepărta hexametildisiloxanul pentru a obține în finalhexametildisilazan (HMDS).
Tag-uri populare: hexametildisilazan (hmds) cas 999-97-3, furnizori, producători, fabrică, en-gros, cumpărare, preț, vrac, de vânzare