Metoxi propanolși etilenglicol eterul aparțin solvenților binari de eter alcoolic, care sunt lichide incolore și transparente. Toxicitatea eterului de propilen glicol pentru corpul uman este mai mică decât cea a produselor eterului de etilen glicol și aparține eterii cu toxicitate scăzută. Eterul metilic de propilenglicol are un miros slab de eter, dar nu are un miros puternic înțepător, ceea ce îl face mai utilizat și mai sigur. Deoarece structura sa moleculară conține atât grupare eter cât și grupare hidroxil, are o solubilitate excelentă, o viteză de volatilizare adecvată și activitate de reacție și a fost utilizat pe scară largă. Este folosit în principal ca un solvent excelent pentru nitroceluloză, rășină alchidă și rășină fenolică modificată cu anhidridă maleică, ca antigel pentru combustibil de reacție și aditiv pentru lichidul de frână; Este folosit în principal ca solvent, dispersant și diluant, precum și ca antigel și extractant de combustibil.
|
Formula chimică |
C4H10O2 |
|
Masa exactă |
90 |
|
Greutate moleculară |
90 |
|
m/z |
90 (100.0%), 91 (4.3%) |
|
Analiza elementară |
C, 53.31; H, 11.18; O, 35.51 |
|
|
|
Metoda de preparare aMetoxi Propanol(denumită de obicei, mai precis, propilenglicol monometil eter) este descrisă după cum urmează:
(1) Prepararea materiei prime:
Obține epiclorhidrina și metanol ca reactanți.
Se prepară un catalizator, care este pământ de diatomee încorporat cu clorură ferică. Dintre acestea, greutatea clorurii ferice este de 2% din greutatea epiclorhidrinei.
(2) Setări dispozitiv:
Alegeți un recipient potrivit pentru reacții de-presiune înaltă și de-temperatură înaltă, cum ar fi un reactor de-înaltă presiune.
Configurați un sistem de control al temperaturii și presiunii pentru vasul de reacție pentru a asigura un control precis al temperaturii și presiunii de reacție.
(1) Amestecarea materiilor prime:
Se amestecă epoxi propan și metanol uniform într-un raport molar de 1:3.
(2) Adăugați catalizator:
Se adaugă la amestecul de reacție catalizatorul de pământ de diatomee preparat încorporat cu clorură ferică.
(3) Reacția de încălzire:
Se încălzește amestecul de reacție la 190 de grade.
Menține presiunea de reacție la 1,5 MPa (sau 1500 kPa).
Timpul de reacție este de 50 de minute.
Distilarea în vid: După ce reacția este completă, amestecul de reacție este supus distilarii în vid pentru a separa eterul monometil de propilenglicol.
Distilarea la presiune redusă ajută la scăderea temperaturii de distilare, reducând astfel descompunerea produselor termosensibile.
(1) Determinarea randamentului: Randamentul de eter monometil de propilen glicol a fost determinat prin cântărire sau prin alte metode adecvate, iar randamentul a fost de 98,2%.
(2) Testarea purității: Utilizați cromatografia sau alte tehnici analitice pentru a testa puritatea produsului și obțineți o puritate de 99,1%.
Aplicarea deMetoxi Propanol(cunoscut și ca 1-metoxi-2-propanol, abreviat ca PGME) în fotorezista semiconductoare este un domeniu important și specializat printre numeroasele sale utilizări. Fotorezista este un material indispensabil în procesul de fabricație a semiconductorilor, utilizat în principal pentru microfabricarea circuitelor integrate și a dispozitivelor discrete semiconductoare. De asemenea, are o gamă largă de aplicații în procesele de producție de afișaje cu ecran plat, LED-uri, flip-flops, capete magnetice și senzori de precizie. Propilenglicol metil eterul, ca o componentă importantă a solventului fotorezist, joacă un rol crucial în performanța și procesul de fabricație a fotorezistului.
Fotorezist, cunoscut și sub denumirea de fotorezist, este compus din componente principale și solvenți. Solventul principal utilizat în prezent pentru fotorezist este propilenglicol metil eter acetat (PMA), dar propilenglicol metil eter (PGME) este, de asemenea, utilizat ca solvent sau solvent auxiliar în unele formulări de fotorezist. Principalele componente ale fotorezist includ rășina, monomerii, fotoinițiatorii și aditivii. Dintre acestea, conținutul de rășină reprezintă aproximativ 50% până la 60% din componentele principale, iar conținutul de monomer reprezintă aproximativ 35% până la 45%. Principiul fotorezist este utilizarea surselor de lumină, cum ar fi lumina ultravioletă, laserul excimer, fasciculul de electroni, fasciculul de ioni, raze X-, etc. pentru a iradia sau a radia, provocând o modificare a solubilității sale, formând astfel modelul dorit pe placă de siliciu.
2. Rolul eterului metilic al propilenglicolului în fotorezist
(1) Acțiunea solventului:
Eterul metilic de propilenglicol este utilizat în principal ca solvent în fotorezist. Poate dizolva fotosensibilizatorii solizi și aditivii pentru a forma un amestec lichid, asigurând o bună curgere a fotorezistului. Această fluiditate este crucială pentru acoperirea uniformă a fotorezistului pe suprafața plachetei prin tehnologia de acoperire prin spin.
(2) Reglarea vâscozității:
Adăugarea de propilen glicol metil eter poate ajusta vâscozitatea fotorezistului, făcându-l mai potrivit pentru procese specifice de acoperire. Reglarea corectă a vâscozității ajută la asigurarea distribuției uniforme a fotorezistului în timpul procesului de acoperire, evitând generarea de bule și defecte.
(3) Îmbunătățirea performanței acoperirii:
Eterul metilic de propilenglicol are volatilitate moderată și se poate evapora rapid în timpul procesului de acoperire, lăsând un film fotorezistent uniform și dens. Acest lucru ajută la îmbunătățirea aderenței și rezistenței la coroziune a fotorezistului.
(4) Influența asupra efectului litografiei:
Unele proprietăți fizice și chimice ale eterului metilic al propilenglicolului, cum ar fi punctul de fierbere, solubilitatea și tensiunea superficială, pot avea un anumit impact asupra efectului de litografie al fotorezistului. De exemplu, un punct de fierbere adecvat poate asigura că fotorezistul nu deformează modelul în timpul expunerii datorită evaporării rapide a solventului.
3. Aplicarea specifică a eterului metilic de propilen glicol în fotorezistul semiconductor
(1) Rezistent foto de ultimă generație:
În fotorezistul de calitate superioară, eterul metilic de propilenglicol poate fi utilizat ca solvent sau aditiv auxiliar. Aceste fotoreziste sunt utilizate în mod obișnuit pentru a fabrica dispozitive semiconductoare cu o integrare mai mare și structuri mai complexe. Adăugarea de propilen glicol metil eter poate îmbunătăți performanța acoperirii și efectul litografiei fotorezistului, crescând astfel randamentul și performanța dispozitivelor.
(2) fotorezist ArF:
ArF photorezist este unul dintre materialele cheie utilizate pentru fabricarea dispozitivelor semiconductoare cu noduri de proces de 7 nm și mai jos.
Eterul metilic de propilenglicol poate fi utilizat ca solvent sau aditiv în fotorezistul ArF pentru a îmbunătăți performanța de acoperire și efectul litografiei. Fotorezistul ArF are cerințe extrem de mari de solvenți, iar anumite proprietăți ale eterului metilic al propilenglicolului îl fac o alegere potrivită.
(3) Alte tipuri de fotorezist:
Pe lângă fotorezistul ArF, eterul metilic al propilenglicolului poate fi utilizat și în alte tipuri de fotorezist, cum ar fi fotorezistul KrF, fotorezistul i-line etc. Aceste fotorezistente au domenii de aplicare și cerințe diferite de proces în procesul de fabricație a semiconductorilor. Adăugarea de propilen glicol metil eter poate ajusta performanța și efectul de acoperire al fotorezistului în funcție de nevoile specifice.
4. Influența eterului metilic de propilen glicol asupra procesului de fabricație a semiconductorilor
(1) Îmbunătățirea eficienței producției:
Adăugarea de propilen glicol metil eter poate îmbunătăți performanța de acoperire și efectul litografiei fotorezist, sporind astfel eficiența producției de dispozitive semiconductoare. Acoperirea uniformă și modelele de litografie clare ajută la reducerea defectelor și a ratelor de reprelucrare, scurtând ciclurile de producție.
(2) Reducerea costurilor de producție:
Prin optimizarea procesului de formulare și acoperire a fotorezistului, costul de producție al dispozitivelor semiconductoare poate fi redus. Ca una dintre componentele importante ale fotorezistului, utilizarea rațională a eterului metilic de propilenglicol poate reduce deșeurile și pierderile inutile, reducând astfel costurile de producție.
(3) Îmbunătățirea performanței dispozitivului:
Îmbunătățirea performanței fotorezistului cu propilenglicol metil eter ajută la îmbunătățirea performanței dispozitivelor semiconductoare. De exemplu, o acoperire mai uniformă și modele de litografie mai clare pot reduce parametrii paraziți, cum ar fi rezistența și capacitatea dispozitivului, și pot îmbunătăți performanța, cum ar fi viteza și consumul de energie.
(4) Promovarea modernizării tehnologice:
Odată cu dezvoltarea continuă a tehnologiei semiconductoare, cerințele pentru fotorezist sunt, de asemenea, în creștere. Introducerea de noi solvenți și aditivi, cum ar fi eterul metilic de propilenglicol, poate promova îmbunătățirea și progresul tehnologiei fotoreziste, aducând mai multe oportunități de inovare și dezvoltare în domeniul producției de semiconductori.
Metoxi Propanol, ca una dintre componentele importante ale fotorezistului semiconductor, are perspective largi de aplicare și avantaje în procesul de fabricație a semiconductorilor. Prin optimizarea procesului de formulare și acoperire a fotorezistului, eficiența producției și performanța dispozitivelor semiconductoare pot fi îmbunătățite, iar costurile de producție pot fi reduse. Cu toate acestea, problemelor sale de mediu și siguranță trebuie să li se acorde o atenție suficientă. În viitor, odată cu dezvoltarea continuă a tehnologiei semiconductoarelor și creșterea gradului de conștientizare a protecției mediului, introducerea de noi solvenți și aditivi, cum ar fi eterul metilic de propilenglicol, va promova îmbunătățirea și progresul tehnologiei fotorezist, aducând mai multe oportunități de inovare și dezvoltare în domeniul producției de semiconductori. În același timp, este, de asemenea, necesar să se consolideze cercetarea și supravegherea privind protecția și siguranța mediului, pentru a asigura dezvoltarea durabilă a procesului de fabricație a semiconductorilor și siguranța personalului și a mediului.
Întrebări frecvente
Pentru ce se utilizează metoxi propanol?
+
-
Metoxipropanolul este utilizat în mod predominant la fabricarea acetatului de eter metilic de propilen glicol (altfel cunoscut sub numele de PMA) și este, de asemenea, utilizat în produse industriale și comerciale, inclusiv vopsele, lacuri, cerneluri, rășini sintetice și adezivi din cauciuc și produse de curățare pentru automobile și cuptoare.
Este metoxipropanolul toxic?
+
-
1-Metoxi-2-propanolul este un toxic ușor. Toxicitatea este mai mică decât cea a eterului metil, etil și butilic ai etilenglicolului. Simptomele toxice de la inhalarea unor concentrații mari sunt greața, vărsăturile și efectele anestezice generale. La om, efectele toxice pot fi resimțite la expunerea la un nivel de 3000-4000 ppm.
Pentru ce se utilizează metoxiizopropanol?
+
-
Utilizarea principală a metoxiizopropanolului esteîn vopsele. Alte denumiri pentru metoxiizopropanol includ 1-metoxi-2-hidroxipropan, 1-metoxi-2-propanol și eter monometil de propilen glicol (PGME).
Pentru ce se folosește metoxipropanul?
+
-
Comercializat sub denumirile comerciale Metopryl și Neothyl, a fost utilizat metoxipropanca alternativă la eterul dietilicdin cauza puterii sale mai mari. Utilizarea sa ca anestezic a fost înlocuită de atunci cu eterii halogenați moderni, care sunt mult mai puțin inflamabili.
Pentru ce se folosește metoxifenolul?
+
-
Se folosesc metoxifenoliîn fabricarea de antioxidanți și de produse farmaceutice. 2- Metoxifenolul este folosit ca expectorant și în arome sintetice.
Este propanolul dăunător pentru oameni?
+
-
Cu toate acestea,a fost raportat un singur caz de intoxicație letală cu 1-propanol. Cele mai probabile efecte acute ale 1-propanolului la om sunt intoxicația alcoolică și narcoza. Rezultatele studiilor pe animale indică faptul că 1-propanolul este de 2 - 4 ori mai intoxicant decât etanolul. 1-Propanolul poate fi iritant pentru pielea hidratată.
Care sunt efectele secundare ale metoxiizopropanolului?
+
-
Poate provoca somnolență sau amețeli. H226 Lichid și vapori inflamabili. H336 Poate provoca somnolență sau amețeli. P210 A se ține departe de căldură, suprafețe fierbinți, scântei, flăcări deschise și alte surse de aprindere.
Tag-uri populare: metoxi propanol cas 107-98-2, furnizori, producători, fabrică, en-gros, cumpărare, preț, vrac, de vânzare